알칼리가없는 슬롯 사이트 기판 : OA-11
평평한 패널 디스플레이를위한 최고의 슬롯 사이트 (FPDS)
얇은 고해상도 디스플레이를 위해 설계된 슬롯 사이트 기판. 중력 하의 최소 변형과 편향은 얇은 기판으로도 취급을 용이하게 보장합니다. 이 슬롯 사이트 기판은 또한 고온 공정에서 탁월한 차원 안정성을 제공하므로 차세대 디스플레이에 이상적입니다.
응용 프로그램
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LCD 디스플레이
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OLED 디스플레이
기능
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표면 부드러움
연마 없이도 높은 표면 부드러움을 제공합니다. -
알칼리성 구성
알코올민 산화물의 함량은 0.1% 이하이며, 비정질 및 다결정 실리콘의 박막 특성을 보존합니다. -
열 차원 안정성
필름 증착 및 TFT 제조 공정 중에 높은 변형점과 낮은 열 팽창 계수의 우수한 안정성을 보장합니다. -
화학 표면 안정성
반도체 및 TFT 제조에 사용되는 화학 용액에 대한 내성, 클라우지없이 매끄럽고 투명한 표면을 유지합니다. -
친환경 녹색 유리
비소 (AS) 및 안티몬 (SB)과 같은 유해 물질이 없으며 환경 친화적 인 관행을 지원합니다.
사양
열 수축
전송
속성
| 속성/유리 코드 | OA-11 | ||
|---|---|---|---|
| 밀도 | × 103kg/m3 | 2.52 | |
| 열 팽창 계수 | 30-380 | × 10-7/k | 37 |
| Strin Point | ℃ | 685 | |
| Young 's Modulus | gpa | 78 | |
| 포아송 비율 | 0.2 | ||
| Vickers 경도 | HV | 620 | |
| 볼륨 저항 logρ | 350 ℃ | ω ・ cm | 13.0 |
| 유전 상수 | 1MHz, 25 ℃ | 5.6 | |
| tanδ | 1MHz, 25 ℃ | 0.001 | |
| 전송 | λ = 550nm | % | 92 |
| 굴절률 (ND) | 587.6nm | 1.53 | |
| 화학 저항 | 10%HCL (80 ℃ -60min) | 표면 변경 없음 | |
| 63BHF (20 ℃ -3min) | 표면 변경 없음 | ||
| 알칼리 산화물 함량 | WT% | 0.1 이하 | |
| AS, SB Content | WT% | 존재하지 않음 (0.1 미만) | |
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